Effect of material on nanomechanical behaviour of TiN/NbN, CrN/NbN and TiN/CrN superlattices deposited on silicon.

In the paper are presented the results of tests of nanomechanical behaviour of ultrathin (200 nm) multilayers films (superlattices) deposited by PVD technique on the single crystal Si, Si3N4 and SiO2 substrates. The superlattices were produced by various combinations of ultrathin single layers of NbN, TiN and CrN. The evaluation of the effect of the material (and the substrate) on the nanohardness and modulus of elasticity was found from the nanoindentation studies. It was observed that TiN/CrN superlattices deposited on Si demonstrates the best mechanical properties (nanohardness over 21 GPa). The best uniformity of the films was found for the TiN/CrN superlattices deposited on Si3N4.

---

W pracy przedstawiono wyniki badań nanomechanicznego zachowania się ultracienkich (200 nm) powłok wielowarstwowych (supersieci) nanoszonych metodą PVD na podłoża Si, Si3N4 i SiO2. Supersieci wykonywano z kombinacji warstw azotków NbN, TiN i CrN. Oceniono wpływ materiału na uzyskiwanie wartości nanotwardości i modułu sprężystości, wyznaczone metodą nanoindentacji. Zaobserwowano, że najlepsze właściwości mechaniczne (twardość powyżej 21GPa) wykazują supersieci TiN/CrN na podłożu Si, natomiast najlepszą jednorodnością charakteryzują się supersieci TiN/CrN na podłożu Si3N4.