Cienkie warstwy Ti(C,N,O) wytwarzane techniką PLD

W pracy przedstawiono wyniki badań biozgodnych cienkich warstw Ti(C,N,O) wytwarzanych techniką PLD (Pulsed Laser Deposition) na podłożu polimerowym (poliuretan). Badano morfologię powierzchni wytworzonych warstw, ich strukturę oraz skład chemiczny i fazowy. Badano chropowatość powierzchni oraz grubość nałożonych powłok. Mierzono również współczynnik tarcia otrzymanych cienkich warstw oraz adhezję do podłoża. W skład osadzonych cienkich warstw wchodzi głównie TiO2, TiC, jak również TiO0.34N0.66. Wytworzone cienkie warstwy posiadają grubość od 5 do ok. 15 nm. Wielkość krystalitów wynosi od 3 nm do 7 nm, natomiast chropowatość ok. 1,5 nm. Współczynnik tarcia cienkich warstw Ti(C,N,O) jest mniejszy niż dla poliuretanu i wynosi ok. 0,1.

---

The paper deals with the characterization of Ti(C,N,O) biocompatible thin films on polymer substrate (polyurethane). The layers weredeposited using Pulsed Laser Deposition (PLD) technique. The surface morphology, structure, chemical and phase composition were analyzed. The roughness of the surface, thickness of the thin films and friction coefficient were measured also. The phase composition of thin films generally consist of TiO2, TiC, and TiO0.34N0.66 phases. The thickness of deposited films can be varied between 5 and 15 nm. The crystallite size is estimated from 3 nm to 7 nm, and the roughness is about 1.5 nm. The friction coefficient for Ti(C,N,O) thin films is lower than for polyurethane and averages about 0.1.