The AlMg thin films deposited by using PLD technique

In the paper the systematic study of the pulsed laser deposition of P-Mg2Al3 has been carried out. The AlMg thin films were prepared on Si (100) substrates and deposited by using a Nd:YAG laser (k = 355 nm). The samples were performed with two different laser beam energy densities (4,7 and 10 J/cm2) and two different substrate (Si) temperatures (room temperature and 430 °C). The deposition time was kept at 30 min. The variation of structure, chemical composition and surface roughness of the deposited thin films is discussed. Structure and chemical composition investigation showed that the films possess generally nanocrystalline structure and that the quantity of Al and Mg changes along the film depth. The surface topography of films was varied as result of changing of the fluence value and the substrate temperature.

---

W artykule zostały przeprowadzone systematyczne studia na temat nakładania cienkich warstw P-Mg2Al3 techniką PLD. Cienkie warstwy AlMg były nakładane, na płytki krzemowe (100), za pomocą lasera Nd:YAG ((A. = 355 nm). Próbki wykonano stosując dwie różne gęstości energii promieniowania laserowego(4,7 i 10 J/cm2) oraz różną temperaturę podłoża (Si) (20 °C i 430 °C). Czas nakładania warstw wynosił 30 min. Przedyskutowano zmiany struktury, składu chemicznego oraz chropowatości powierzchni cienkich warstw. Badania strukturalne i składu chemicznego pokazują że warstwy głównie posiadają nanokrystaliczną strukturę oraz zmiany zawartości Al i Mg na przekroju warstwy. Zastosowanie różnych gęstości energii promieniowania laserowego oraz różnej temperatury podłoża powoduje modyfikację topografii powierzchni uzyskanych warstw.