Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Composition of Co films/Si substrate systems prepared by means of self-ion assisted deposition and accompanying silicon damage

Szczegóły
Abstrakt

Tytuł:: Composition of Co films/Si substrate systems prepared by means of self-ion assisted deposition and accompanying silicon damage
Autorzy:: Tashlykov, I.
Mikhalkovich, Y.
Chernysh, V.
Data publikacji:: 2010
Słowa kluczowe:: struktury Co/Si
skład
uszkodzenia
topografia
Co/Si structures
composition
damage
topography
Język:: angielski
Dostawca treści:: BazTech
: Artykuł

Przejdź do źródła

The composition, radiation damage and morphology of silicon modified by means of self – ion assisted Co deposition was investigated.

Zbadano skład i uszkodzenia radiacyjne krzemu zmodyfikowanego podczas naniesienia powłok Co metodą dynamicznego mieszania jonowego.

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies

Informacja

Composition of Co films/Si substrate systems prepared by means of self-ion assisted deposition and accompanying silicon damage