Niskotemperaturowe azotowanie jarzeniowe tytanu technicznego z zastosowaniem ekranu aktywnego

W pracy określono wpływ różnych wariantów położenia próbek tytanu technicznego Ti99,2 w komorze jarzeniowej na kinetykę procesu azotowania jarzeniowego. Prowadzono badania przebiegów napięciowych oraz pomiary temperatury w różnych obszarach wyładowania jarzeniowego. Stwierdzono znaczne różnice wartości temperatury dla poszczególnych wariantów położenia próbki azotowania oraz zmianę przebiegów napięciowych w różnych obszarach wyładowania jarzeniowego. Efektem zamiany warunków panujących w różnych obszarach wyładowania jarzeniowego jest wytworzenie warstw azotowanych o zmiennej głębokości i właściwościach użytkowych.

---

The effect of sample location in a glow discharge chamber on the kinetics of ion nitriding of Ti 99.2 is analyzed in the paper. In order to set the process parameters, the voltage oscilloscope traces and temperature in different glow discharge areas were examined. Significant temperature differences and voltage changes were observed for different nitriding variants and glow discharge areas. The effect of the nitriding process conditions was the formation of nitride layers with different depth and functional properties which mainly depend on the ion nitriding variant.