Tytuł pozycji:
Elektroosadzanie powłok chromowych z przyjaznych środowisku rozpuszczalników eutektycznych na bazie Cr(III) jako alternatywa dla klasycznego chromowania Cr(VI)
Przedstawiono wyniki badań wstępnych procesu elektrochemicznego wydzielania powłok chromowych w rozpuszczalniku eutektycznym utworzonym z chlorku choliny i chlorku chromu( III) z dodatkiem 5-20% mas. wody. Wykazano, że powłoki chromowe można otrzymać w zakresie temp. 25-65°C dopiero wówczas, gdy zawartość dodatkowo wprowadzonej do kąpieli wody wynosi 20% mas. Poniżej tego stężenia szybkość chromowania jest znikoma i z technologicznego punktu widzenia nieprzydatna w warunkach przemysłowych. Powłoki otrzymane w 35°C i przy katodowej gęstości prądu wynoszącej 7,2 A/dm2 (odpowiadający jej potencjał redukcji wynosi - 2,0 V względem elektrody Ag) charakteryzują się drobnokrystaliczną i zwartą mikrostrukturą bez widocznych wad.
Cu plates were covered with Cr from aq. solns. of CrCl3 and Me3N+CH2CH2OH (H2O content 20.3% by mass) at 35-65°C and 7.2 A/dm2 after addn. of H2 O (20% by mass). The deposition rate was 1.4 μm/h and cathode current yield 8–10%. The deposited Cr layer had a fine-grained uniform defect-free microstructure.
Opracowanie rekordu w ramach umowy 509/P-DUN/2018 ze środków MNiSW przeznaczonych na działalność upowszechniającą naukę (2018)
