Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Etching of Si(100) and (110) substrates in KOH solutions saturated and son-saturated with isopropyl alcohol

Szczegóły
Opis

Tytuł:: Etching of Si(100) and (110) substrates in KOH solutions saturated and son-saturated with isopropyl alcohol
Autorzy:: Rola, Krzysztof
Współwytwórcy:: Kramkowska, Małgorzata
Zubel, Irena
Politechnika Wrocławska. Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki
Data publikacji:: 2011
Źródło:: Biblioteka Narodowa
Język:: angielski
Prawa:: http://www.europeana.eu/rights/rr-r/
Publikacja chroniona prawem autorskim - reprodukcja cyfrowa dostępna w czytelniach BN i na terminalach Academiki
Dostawca treści:: Academica
: Artykuł

Przejdź do źródła

Bibliogr.

Streszcz. pol.

Materiały z konferencji: 10th Electron Technology Conference ELTE 2010 and 34th International Microelectronics and Packaging IMAPS-CPMT Poland Conference; Wrocław, 22-25 September 2010.

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies

Informacja

Etching of Si(100) and (110) substrates in KOH solutions saturated and son-saturated with isopropyl alcohol