- Tytuł:
-
Zastosowanie selektywnego trawienia chemicznego do określenia położenia ścięć bazowych na monokrystalicznych płytkach o orientacji (100) wiązków półprzewodnikowych typu AIIIBV
Zastosowanie selektywnego trawienia chemicznego do określenia położenia ścięć bazowych na monokrystalicznych płytkach o orientacji (100) wiązków półprzewodnikowych typu AIIIBV Joanna Pawłowska, Anna Bańkowska. = Application of selective chemical etching to producing on the orientation flats on the wafers III-V semiconducting compounds
Materiały Elektroniczne 2008 T.36 nr 3 - Autorzy:
- Pawłowska Joanna
- Współwytwórcy:
- Bańkowska Anna
- Data publikacji:
- 2008
- Wydawca:
- ITME
- Słowa kluczowe:
-
Elektronika - czasopismo - materiały
Electronic - journal - materials
flats
chemical etching AIIIBV materials
trawienie chemiczne AIIIBV
ścięcie bazowe
Materiały elektroniczne
Electronic - materials - Źródło:
-
http://katalog.pan.pl/webpac-bin/218bitmeEN/wgbroker.exe?new+-access+top+search+open+NR+kv_5987
ITME, sygn. dostępny
http://katalog.pan.pl/webpac-bin/218bitmePL/wgbroker.exe?new+-access+top+search+open+NR+kv_5987 - Język:
- polski
- Prawa:
-
Prawa zastrzeżone - dostęp nieograniczony
Rights Reserved - Free Access - Linki:
- https://rcin.org.pl/dlibra/publication/edition/7175/content Link otwiera się w nowym oknie
- Dostawca treści:
- RCIN - Repozytorium Cyfrowe Instytutów Naukowych
- Książka
Menu główne
Wyszukiwarka
Treść główna
