Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Badanie stabilności termicznej żywic glicydylosiloksanowych utwardzanych za pomocą amin alifatycznych

Tytuł:
Badanie stabilności termicznej żywic glicydylosiloksanowych utwardzanych za pomocą amin alifatycznych
Autorzy:
Makarewicz, E.
Shyychuk, I.
Maciejewski, H.
Shyichuk, O.
Data publikacji:
2015
Słowa kluczowe:
glycidylsiloxane resins
curing
thermal oxidative destruction
żywica glicydylosiloksanowa
utwardzanie
rozkład termooksydacyjny
Język:
polski
Dostawca treści:
BazTech
Artykuł
  Przejdź do źródła  Link otwiera się w nowym oknie  Pełny tekst  Link otwiera się w nowym oknie
Zbadano proces termicznego rozkładu powłok z żywic glicydylosiloksanowych utwardzonych przy użyciu trietylenotetraminy (TETA), izoforonodiaminy (IDA) oraz poliamidu (PF). Wytworzone powłoki lakierowe wykazywały odporność na działanie temperatury do 300 °C. W celu doboru optymalnego składu żywicy ocenie poddano próbki o różnej zawartości grup glicydylowych, różnym ciężarze cząsteczkowym i różnym udziale grup siloksanowych. Metodą termograwimetrii wyznaczono temperaturę rozkładu (początkową, maksymalną i końcową), efekty cieplne i całkowitą zmianę masy. Metodą spektrometrii w podczerwieni zidentyfikowano rodzaj produktów powstających w wyniku termodestrukcji.
Oligomeric glycidylsiloxanes are promising components of hybrid amino-epoxy-siloxane coatings with improved properties. The thermal stability of amine-cured glycidylsiloxane resins were studied by means of thermogravimetric analysis. Four samples of glycidylsiloxane resin, with 18 to 30 glycidyl groups per molecule and molar masses from 5 to 10.5 kg/mol, were cured at 140 °C with triethylenetetramine (TETA), isophorone diamine (IDA) and a polyamide (PF). The onset temperatures of degradation, residual masses and heat effects were measured. Maximal degradation rates were registered at temperatures above 400 °C. Infrared spectra of the residues indicate that the least stable bonds are Si-C, C-H and C-N. A second degradation step takes place above 700 °C resulting in disperse silica.

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies