Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Właściwości odbiciowe struktur z warstwami wytwarzanymi metodą zol-żel i techniką dip-coating

Tytuł:
Właściwości odbiciowe struktur z warstwami wytwarzanymi metodą zol-żel i techniką dip-coating
Autorzy:
Gajda, Aleksandra
Gondek, Ewa
Karasiński, Paweł
Data publikacji:
2021
Słowa kluczowe:
metoda zol-żel
charakterystyki odbiciowe
spektrofotometria
warstwy krzemionkowe
sol-gel method
reflectance characteristics
spectrophotometry
silica layers
Język:
polski
Dostawca treści:
BazTech
Artykuł
  Przejdź do źródła  Link otwiera się w nowym oknie
Artykuł prezentuje wyniki badań właściwości odbiciowych struktur z cienkimi warstwami krzemionkowymi, z warstwami ditlenku tytanu TiO2 oraz z warstwami kompozytowymi SiO2:TiO2, które wytworzone zostały za pomocą metody zol-żel i techniki dip-coating na dwóch różnych rodzajach podłoży. W badaniach zastosowano podłoża ze szkła sodowo-wapniowego (podłożowe płytki mikroskopowe) oraz wafle krzemowe. Na szkle sodowo-wapniowym wytworzone były warstwy kompaktowej krzemionki, dla której współczynnik załamania wynosił ~1,45 oraz warstwy porowatej krzemionki o współczynniku załamania ~1,2 i porowatości wynoszącej w przybliżeniu 50%, a także warstwy dwuskładnikowe SiO2:TiO2 o homogeniczności na poziomie cząsteczkowym. Na podłożach krzemowych wytworzone zostały struktury antyrefleksyjne jedno- oraz dwuwarstwowa. Wykorzystując spektrofotometr światłowodowy wyznaczono charakterystyki odbiciowe badanych struktur w zakresie widmowym 200-1000 nm. Na podstawie wykonanych pomiarów określono wpływ rodzaju podłoża i ilości naniesionych warstw na charakterystyki odbiciowe. Porównując charakterystyki odbiciowe badanych struktur warstwowych z charakterystykami odbiciowymi podłoży określono jednorodność optyczną warstw.
The article presents the results of investigations of reflectance properties of structures with silica, titanium dioxide TiO2 and SiO2:TiO2 composite thin films, which were fabricated by sol-gel and dip-coating techniques on two different types of substrates. Soda-lime glass substrates (substrate microscope plates) and silicon wafers were used in this study. Compact silica layers were produced on soda-lime glass for which the refractive index was about 1.45 and porous silica layers with a refractive index of about 1.2 and a porosity of approximately 50%, as well as SiO2:TiO2 binary layers with homogeneity at the molecular level. Single- and double-layer antireflective structures were fabricated on silicon substrates. Using a fiber optic spectrophotometer, the reflectance characteristics of the structures studied were determined in the spectral range 200-1000 nm. The influence of the substrate type and the number of applied layers on the reflectance characteristics was determined on the basis of the performed measurements. By comparing the reflectance characteristics of the investigated layered structures with the reflectance characteristics of the substrates, the optical homogeneity of the layers was determined.
Opracowanie rekordu ze środków MEiN, umowa nr SONP/SP/546092/2022 w ramach programu "Społeczna odpowiedzialność nauki" - moduł: Popularyzacja nauki i promocja sportu (2022-2023).

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies