Deposition of Thin (Ti,Si)N reflecive layers on textiles substrates

This paper describes the structure of the device and the method of applying thin (Ti,Si)N layers used as infrared radiation reflectors on fabrics. Ion magnetron sputtering at an average frequency MF (80 kHz) was used as the deposition method. Fabrics covered with thin layers are used for the production of clothes and elements of personal protective equipment dedicated to employees (emergency services, armed forces, metallurgy, mining and others) performing tasks in a hot microclimate environment.

---

W artykule opisano budowę urządzenia oraz sposób nakładania na tkaniny cienkich warstw (Ti,Si)N stosowanych jako reflektory promieniowania podczerwonego. Jako metodę osadzania zastosowano magnetronowe rozpylanie jonowe o średniej częstotliwości MF (80 kHz). Tkaniny pokryte cienkimi warstwami wykorzystywane są do produkcji odzieży oraz elementów środków ochrony indywidualnej dedykowanych pracownikom (służby ratunkowe, siły zbrojne, hutnictwo, górnictwo i inne) wykonującym zadania w gorącym mikroklimacie.

---

Opracowanie rekordu ze środków MEiN, umowa nr SONP/SP/546092/2022 w ramach programu "Społeczna odpowiedzialność nauki" - moduł: Popularyzacja nauki i promocja sportu (2022-2023).