Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Plasma deposition and etching of carbon layers for microelectronics

Szczegóły

Tytuł:: Plasma deposition and etching of carbon layers for microelectronics
Autorzy:: Galazka M.
Szmidt J.
Werbowy A.
Tematy:: plasma deposition
thin carbon layer
plasma etching
microelectronics
aluminium mask
carbon layer
Język:: angielski
Dostawca treści:: AGRO
: Artykuł

Przejdź do źródła

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies

Informacja

Plasma deposition and etching of carbon layers for microelectronics