Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Jedno- i dwuwarstwowe struktury antyrefleksyjne wytwarzane metodą zol-żel do zastosowań w fotoogniwach krzemowych

Tytuł:
Jedno- i dwuwarstwowe struktury antyrefleksyjne wytwarzane metodą zol-żel do zastosowań w fotoogniwach krzemowych
Autorzy:
Skolik, M.
Karasiński, P.
Data publikacji:
2017
Słowa kluczowe:
struktura antyrefleksyjna
fotoogniwo krzemowe
zol-żel
ditlenek krzemu
ditlenek tytanu
dip-coating
formalizm macierzy
antireflective structure
silicon photovoltaic cell
sol-gel
silica
titania
matrix formalism
Język:
polski
Dostawca treści:
BazTech
Artykuł
  Przejdź do źródła  Link otwiera się w nowym oknie
Pomimo pojawienia się wielu nowych rodzajów fotoogniw słonecznych, fotogniwa krzemowe nadal odgrywają istotną rolę. Wysoki współczynnik załamania krzemu sprawia, że ponad 34% fotonów promieniowania słonecznego z zakresu absorpcji krzemu ulega od niego odbiciu i nie generuje w nim ekscytonów. Odbicie światła można istotnie zmniejszyć teksturując powierzchnię krzemu, wytwarzając na niej strukturę antyrefleksyjną albo stosując jednocześnie oba rozwiazania. Praca dotyczy jedno- i dwuwarstwowych struktur antyrefleksyjnych wywtarzanych metodą zol-żel i techniką dip-coating na podłożach krzemowych. Dla struktury jednowarstwowej osiągnięto ważony współczynnik odbicia fotonów Rw 9%, natomiast dla struktury dwuwarstwowej osiągnięto Rw<4%. W pracy przedstawiano optymalizację teoretyczną struktur antyrefleksyjnych, technologię ich wytwarzania oraz wyniki badań eksperymentalnych. Osiągnięto doskonałą zgodność wyników analizy teoretycznej z wynikami eksperymentalnymi.
Besides many different types of photovoltaic solar cells, silicon solar cells are still of significant importance. Bare silica’s high refraction index leads to greater than 34% reflection of solar light photones, within silica’s absorption band, from its surface without generating excitons. Reflection loss can be significantly reduced with the use of surface texturing and/or antireflective coatings. The most beneficial effect is achieved when combinig both, surface texturing and antireflective coatings. This work presents single and double layer Anti Reflective Structures (ARS’s) derived from sol-gel process for application in silicon photovoltaic cells. Weighted average reflection of a single layer ARS is Rw 9%, whereas double layer ARS provides weighted average reflection Rw<4%. In this work theoretical optimization of ARS’s, technological process of structure fabrication as well as experimental results are demonstrated. Theoretical data shows excellent correlation with experimental results.
Opracowanie ze środków MNiSW w ramach umowy 812/P-DUN/2016 na działalność upowszechniającą naukę (zadania 2017).

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies