Optical emission spectra of Zn and Bi in pulsed magnetron plasma

This study aimed at determining the relations between technological parameters of sputtering process - power discharge, the targetsubstrate distance, working gas pressure and the chemical composition of pulsed magnetron plasma by means of optical spectrophotometry. Planar 0.90Zn-0.10Bi target was sputtered in Ar, O2 and in the atmosphere of the both gases mixture. Optical emission spectra were measured in 200800 nm wavelength range.

---

Za pomocą spektroskopii optycznej określono korelacje pomiędzy parametrami procesu rozpylania - moc wyładowania, odległość target-podłoże, ciśnienie gazu, a składem chemicznym plazmy magnetronowego wyładowania jarzeniowego. W badaniach zastosowano stop 0,90Zn-0,10Bi. Target rozpylano w atmosferze argonu (Ar), tlenu (O2) oraz mieszaninie obu tych gazów. Widma emisyjne rejestrowano w zakresie długości fal od 200-800 nm.