Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Generation of three-port splitter by double-layer grating in second-order Littrow configuration

Tytuł:
Generation of three-port splitter by double-layer grating in second-order Littrow configuration
Autorzy:
Gao, Chenhao
Wang, Bo
Fu, Chen
Fang, Jimin
Wen, Kunhua
Meng, Ziming
Nie, Zhaogang
Xing, Xiangjun
Chen, Li
Lei, Liang
Zhou, Jinyun
Data publikacji:
2020
Słowa kluczowe:
three-port splitter
second-order Littrow
double-layer grating
Język:
angielski
Dostawca treści:
BazTech
Artykuł
  Przejdź do źródła  Link otwiera się w nowym oknie  Pełny tekst  Link otwiera się w nowym oknie
In this paper, a novel double-layer three-port grating is described. The incident grating structure is in the second-order Littrow configuration. The grating region is composed of fused silica and Ta2O5.The designed grating beam splitter has high efficiency under TE polarization and TM polarization, respectively. The efficiency of two polarizations is more than 90%. In addition, compared with a single-layer three-port grating, this new beam splitter has good fabrication tolerance and incident bandwidth. Therefore, the optimized structure has a good application value.
Opracowanie rekordu ze środków MNiSW, umowa Nr 461252 w ramach programu "Społeczna odpowiedzialność nauki" - moduł: Popularyzacja nauki i promocja sportu (2020).

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies