Tytuł pozycji:
Bezprądowe osadzanie nanocząstek miedzi na powierzchni tlenku grafenu
W artykule przedstawiono pionierskie wyniki badań dotyczące osadzania nanocząstek miedzi na powierzchni tlenku grafenu. Jako reduktor jonów Cu2+, wykorzystano dimetyloamino boran. Badania wykazały, że kluczowym czynnikiem mającym wpływ na proces osadzania nanocząstek na powierzchni tlenku grafenu, ma dobór warunków eksperymentalnych, w tym właściwy dobór pH, oraz formy jonów miedzi.
The paper presents the results of a pioneering study on the deposition of copper nanoparticles on the surface of graphene oxide. As a precursor of CuNPs, two different salts were used, and as the reducing agent dimethylamino borate was applied. Studies have shown a key factor of experimental conditions on the process of CuNPs deposition on the surface of graphene oxide.
