System sterowania procesem nanoszenia wielowarstwowych powłok metalicznych metodą jonowego rozpylania

W artykule przedstawiono autorski system sterowania urządzeniem próżniowym, przeznaczonym do nanoszenia wielowarstwowych powłok metalicznych metodą impulsowego rozpylania magnetronowego średniej częstotliwości. System kontroluje prędkość obrotową uchwytu podłoży oraz dozuje poprzez zawory membranowe ilość gazu roboczego. Ponadto umożliwia rejestrację parametrów pracy wyrzutni magnetronowych oraz temperaturą i ciśnienie gazu. W drodze eksperymentu opracowano karty procesowe definiujące wszystkie niezbędne do przeprowadzenia procesu parametry. Pozwoliło to na stworzenie swoistej biblioteki procesów, upraszczającej obsługę umożliwiającej pełną automatyzację stanowiska. Oprogramowanie sterujące zrealizowano w oparciu o środowisko graficzne Lab VIEW, dzięki czemu panel operatorski jest prosty i intuicyjny, ułatwiając zarówno odtwarzanie zdefiniowanego procesu jak i opracowywaniu kolejnych jego modyfikacji.

---

Computer control system for puls MF (Mid Frequency) magnetron sputtering equipment dedicated for metallic multilayers deposition is presented in this paper. The rotation velocity of the sample holder and the gas inlet through membrane valves are the main parameters controlled by the system. Parameters of the magnetron gun power supply, sample temperature and technological gas pressure are registered. The process card which define all process parameters are collected for each dedicated process type. All cards are collected in a process cards library which permits for full automatization of all operations. Software was written in a graphical environment Lab VIEW. It cause very simply usage for operator (operator’s interface is easy to control) and the preparation of the processes modifications is not complicated.