Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Plasma characterization of the gas-puff target source dedicated for soft X-ray microscopy using SiC detectors

Tytuł:
Plasma characterization of the gas-puff target source dedicated for soft X-ray microscopy using SiC detectors
Autorzy:
Torrisi, A.
Wachulak, P.
Torrisi, L.
Bartnik, A.
Węgrzyński, Ł.
Fiedorowicz, H.
Data publikacji:
2016
Słowa kluczowe:
gas-puff target
plasma diagnostic technique
SiC detector
water window
EUV
Język:
angielski
Dostawca treści:
BazTech
Artykuł
  Przejdź do źródła  Link otwiera się w nowym oknie  Pełny tekst  Link otwiera się w nowym oknie
An Nd:YAG pulsed laser was employed to irradiate a nitrogen gas-puff target. The interaction gives rise to the emission of soft X-ray (SXR) radiation in the ‘water window’ spectral range (λ = 2.3÷4.4 nm). This source was already successfully employed to perform the SXR microscopy. In this work, a Silicon Carbide (SiC) detector was used to characterize the nitrogen plasma emission in terms of gas-puff target parameters. The measurements show applicability of SiC detectors for SXR plasma characterization.
Opracowanie ze środków MNiSW w ramach umowy 812/P-DUN/2016 na działalność upowszechniającą naukę.

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies