Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Titanium nitride coatings synthesized by IPD method with eliminated current oscillations

Tytuł:
Titanium nitride coatings synthesized by IPD method with eliminated current oscillations
Autorzy:
Chodun, R.
Nowakowska-Langier, K.
Zdunek, K.
Data publikacji:
2016
Słowa kluczowe:
impulse plasma deposition
IPD method
nanocrystalline coatings
TiN coatings
wear resistant coatings
Język:
angielski
Dostawca treści:
BazTech
Artykuł
  Przejdź do źródła  Link otwiera się w nowym oknie
This paper presents the effects of elimination of current oscillations within the coaxial plasma accelerator during IPD deposition process on the morphology, phase structure and properties of synthesized TiN coatings. Current observations of waveforms have been made by use of an oscilloscope. As a test material for experiments, titanium nitride TiN coatings synthesized on silicon and high-speed steel substrates were used. The coatings morphology, phase composition and wear resistance properties were determined. The character of current waveforms in the plasma accelerator electric circuit plays a crucial role during the coatings synthesis process. Elimination of the current oscillations leads to obtaining an ultrafine grained structure of titanium nitride coatings and to disappearance of the tendency to structure columnarization. The coatings obtained during processes of a non-oscillating character are distinguished by better wear-resistance properties.
Opracowanie ze środków MNiSW w ramach umowy 812/P-DUN/2016 na działalność upowszechniającą naukę.

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies