Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Dry patch formation in diabatic annular two-phase flows

Tytuł:
Dry patch formation in diabatic annular two-phase flows
Autorzy:
Anglart, H.
Data publikacji:
2014
Słowa kluczowe:
dryout
annular flow
Minimum Wetting Rate
liquid film
osuszenie
przepływ pierścieniowy
warstewka cieczy
Język:
angielski
Dostawca treści:
BazTech
Artykuł
  Przejdź do źródła  Link otwiera się w nowym oknie
Conditions for the formation of a stable dry patch in vertical annular two-phase flows in heated channels are investigated. An analytical model of the force balance for the leading edge of the liquid film is developed. In addition to surface tension, evaporation thrust and capillary forces, the model includes the effect of turbulence, the pressure gradient and the interfacial shear stress. Numerical evaluations are performed to validate the model and to indicate the importance of various factors on the dry patch stability and on the resulting minimum wetting rate of the liquid film. The analyses indicate that good agreement with measurements is obtained in the case of a stagnant patch formed on liquid film flowing down a vertical surface. It is shown that for low and moderate mass flow rate of the gas phase in vertical co-current annular flow, the force balance is dominated by the stagnation and the shear stress forces. With growing mass flow rate of the gas phase, the pressure gradient and the interfacial shear stress become increasingly important. As a result, in accordance with measurements, the predicted minimum flow rate of the liquid film at which the patch is re-wetted decreases.

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies