Tytuł pozycji:
Wykorzystanie bezpośredniej litografii interferencyjnej do nanoszenia struktur periodycznych na powierzchni różnych materiałów
W artykule zaprezentowano wyniki bezpośredniego nanoszenia struktur periodycznych 1D i 2D w skali mikro- i submikronowej uzyskane za pomocą impulsowego lasera dużej mocy. Przedstawiono dwukanałowy układ laserowy stanowiący ramiona interferometru Macha-Zehndera, umożliwiający szybkie i łatwe zmiany parametrów obrazu interferencyjnego, jak również gęstości energii w interferujących wiązkach laserowych, w którym wykorzystano generator laserowy na Nd:YAG z Q-modulacją i rezonatorem niestabilnym typu p-branch oraz wzmacniacze laserowe (rys. 6). Uzyskiwany obszar interferencji jest znacznie większy niż w przypadku systemów opisywanych w literaturze i praktycznie obejmuje średnicę wyjściową wiązek laserowych. Strukturowanie powierzchni przeprowadzano w dość szerokim zakresie gęstości mocy impulsów laserowych, co skutkowało na przykład nadtapianiem/polerowaniem powierzchni (rys. 12a), topnieniem warstwy wierzchniej i ablacją – usuwaniem warstwy wierzchniej (rys. 9-12).
The paper presents results of the direct manufacturing of 1D and 2D periodical structures on micron- and submicron scales, which were obtained using a high power pulse laser. A two-channel laser system, constituting arms of a Mach-Zehnder interferometer, allowing fast and easy control of the interference image parameters as well as power (energy) density in the interfering laser beams is also described. The system utilized an Nd:YAG, Q-switched laser oscillator with a p-branch unstable resonator as well as two laser amplifiers (Fig. 6). The resulting interference area is much larger than in the case of the arrangements described in other publications, and practically involves the output diameter of the interfering beams. Surface structuring was performed in quite a wide range of laser pulse power densities, which resulted for instance in surface melting/polishing (Fig. 12a), or top layer melting and ablation – removal of the superficial layer (Fig. 9÷12).
