Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Automation of thin film deposition process based on magnetron sputtering

Szczegóły
Abstrakt

Tytuł:: Automation of thin film deposition process based on magnetron sputtering
Autorzy:: Domanowski, P.
Wawrzak, A.
Data publikacji:: 2012
Słowa kluczowe:: production automation
magnetron flow production line
Język:: angielski
Dostawca treści:: BazTech
: Artykuł

Przejdź do źródła Pełny tekst

This paper presents the structure of a flow processing line implemented in domestic industry and designed for thin film deposition over large surfaces in an atmosphere of argon and reactive gases. The design of the line has been developed based on original pumping cycle and magnetron sputtering control systems.

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies

Informacja

Automation of thin film deposition process based on magnetron sputtering