Oddziaływanie między Ti/TiO2 a kwasem tetrachlorozłotowym jako przyczyna zjawiska cementacji złota w wysokociśnieniowych i wysokotemperaturowych reaktorach tytanowych

Warstwę tlenku tytanu na powierzchni tytanu otrzymywano metodą mokrą, polegającą na traktowaniu wypolerowanego tytanu silnym utleniaczem, jakim jest kwas siarkowy oraz woda utleniona 30 %. Obserwowano kształt oraz strukturę otrzymanych warstw tlenkowych, stosując mikroskopię sił atomowych AFM, jak również wyznaczano grubość warstwy tlenkowej posługując się elipsometrem SE400adv firmy Sentech Instruments (z laserem HeNe - długość fali 632,8 nm). Właściwości chemiczne otrzymanej warstewki tlenkowej badano wobec wodnego roztworu kwasu tetrachlorozłotowego, stosując spektrofotometr UV-VIS firmy Shimadzu model U-2501PC. Na podstawie wyników badań stwierdzono, iż główną przyczyną efektu redukcji kompleksu chlorkowego złota na powierzchni tlenkowej są jego zanieczyszczenia.

---

To produce TiO2 films on titanium, surface of the samples was treated by mixture of H2SO4 and H2O2 at the room temperature by 2 hours with different concentration of acid and H2O2. The compositions of the solution are presented in Table 1. After that, samples were washed in deionized water. Samples were analyzed by AFM microscopy, optical microscopy and ellipsometry. This study shows, that TiO2 film can be obtained by simple chemical treatment. Amount of aqueous hydrogen peroxide has influence on titanium dioxide thickness and surface structure. Obtained films did not protect against cementation process for gold chloride complex. Probably, impurities in titanium grade 2, are responsible for, this cementation process. This studies show that titanium grade 2 materials can be used for industrial autoclave, but in daily laboratory life impurities have great influence on obtained results.