Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Influence of the vacuum-arc source configuration and arc discharge parameters on the evolution and location of arc spots on the cathode surface

Tytuł:
Influence of the vacuum-arc source configuration and arc discharge parameters on the evolution and location of arc spots on the cathode surface
Autorzy:
Walkowicz, J.
Smolik, J.
Słomka, Z.
Kułakowska-Pawlak, B.
Żyrnicki, W.
Data publikacji:
2009
Słowa kluczowe:
cienka powłoka
gruba powłoka
odparowanie łukowe
tytan
zachowanie katody
thin coating
thick coating
arc evaporation
titanium
cathode spots behaviour
Język:
angielski
Dostawca treści:
BazTech
Artykuł
  Przejdź do źródła  Link otwiera się w nowym oknie
Purpose: The paper presents investigations of the evolution, structure and location of arc spots on the cathode frontal surfaces of two types of industrial arc sources. Design/methodology/approach: The temporal behaviour of cathode spots was recorded with the use of a fast CCD camera. The experiments were performed at four values of arc current, nine compositions of the process atmosphere N2+C2H2 and three pressure ranges of the process atmosphere. Findings: The analysis of the recorded pictures revealed the fine structure of the arc discharge for the investigated range of process conditions. Both temporal and spatial behaviour of cathode spots were different for both investigated arc sources. The correspondence between radial distributions of the cathode spots on the cathode surface and radial distribution of plasma flow elements analysed in the volume of the vacuum chamber was revealed. Research limitations/implications: The paper show experimental methodology that can be used for the research of the specificity of cathode spots movement on the cathodes made from different materials. Originality/value: The originality of the research presented in the paper consists in assigning overall correlation between vacuum-arc source configuration and parameters of vacuum-arc discharge – on the one hand, and space-time behaviour of the arc spots during their movement on the circular cathode surface and radial distribution of excited and ionized atoms of the cathode material in the deposition chamber – on the other.

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies