Cienkie warstwy węglikoazotku krzemu wytwarzane z prekursora krzemoorganicznego w selektywnym procesie plazmowym CVD

Amorficzne uwodornione cienkie warstwy węglikoazotku krzemu były wytwarzane z tetrametylodisilazanu w selektywnym procesie plazmowym CVD, w którym do generowania plazmy stosowano mieszaninę wodór-azot. Przedstawiono rezultaty badań nad wpływem stężenia azotu w zasilającej plazmę mieszaninie wodór-azot na strukturę chemiczną, morfologię powierzchni i właściwości warstwy (gęstość, twardość, moduł sprężystości, współczynnik tarcia).

---

Amorphous hydrogenated silicon carbonitride thin films were produced from tetramethyldisilazane by remote plasma chemical vapor deposition using the hydrogen-nitrogen mixture for plasma generation. The results of studies of the effect of the nitrogen content in the plasma feeding hydrogen-nitrogen mixture on chemical structure, surface morphology, and properties (density, hardness, elastic modulus, friction coefficient) of resulting film is reported.