Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Efekty "podłożowe" a morfologia warstw w metodzie IPD

Tytuł:
Efekty "podłożowe" a morfologia warstw w metodzie IPD
Autorzy:
Wierzbiński, E.
Zdunek, K.
Data publikacji:
2003
Słowa kluczowe:
PA PVD/CVD
IPD method
TM AFM
Język:
polski
Dostawca treści:
BazTech
Artykuł
  Przejdź do źródła  Link otwiera się w nowym oknie
W poniższych badaniach przedstawione zostały zależności morfologii powłok TiN otrzymanych metodą IPD od parametrów przeprowadzania procesów oraz materiału podłoży. Dodatkowym rezultatem badań jest obserwacja różnic w morfologii otrzymanych warstw od geometrii uktadu oraz anizotropowa budowa i rozmieszczenie nanokrystalitów tworzących powłokę.
This paper presents a study of synthesis layers in conditions of impulse mass and energy transport. In this case we used Impulse Plasma Deposition method (IPD). The synthesis processes were conducted in a device equipped with two independent and alternately working accelerators of impulse plasma. The sources of Fe and Ti were the internal electrodes of these impulse plasma accelerators, made of titanium and iron. The plasma-generating gas was argon. The layers were deposited on silicon substrates. The material synthesized in the present experiment was an Fe-Ti alloy.

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies