Struktura i odporność korozyjna modyfikowanego powierzchniowo stopu Ti6Al4V

Przedstawiono wyniki badań nad modyfikacją powierzchni stopu Ti6Al4V warstwami typu C:N:H i SiCxNy(H). Warstwy te otrzymano w procesie RFCVD (13,56 MHz, 60 W) oraz MWCVD (2,45 GHz, 800 W) przy użyciu reaktywnych mieszanin gazowych zawierających CH4, N2, SiH4, H2 wprowadzanych do reaktorów w różnych proporcjach. Morfologie powierzchni i skład chemiczny próbek badano przy pomocy analizy SEM, EDS, i XPS. Odporność korozyjną próbek oceniono na podstawie krzywych woltamperometrycznych w roztworze Ringera oraz analizy tego roztworu techniką AAS.

---

This work contains results concerning surface modification of titanium alloy Ti6Al4V with a-C:N:H and a-SiCxNy(H) layers. The layers were produced using the plasma assisted chemical vapour deposition techniques: RFCVD (13,56 MHz, 60 W) and MWCVD (2,45 GHz, 800 W). A gaseous mixture, containing CH4, N2, SiH4 and H2 at various proportions, was introduced into the reactor. The chemical composition and morphology of the layers were investigated using EDS, SEM, XPS methods. The corrosion resistance of the samples was assessed on the basis of voltamperometric curves in a Ringer's solution and of the analysis of this solution by AAS technique.