Ujawnienie struktury cienkich warstw i powłok w badaniach metalograficznych za pomocą Kulotestera

W klasycznych badaniach metalograficznych obserwacje struktur powłok i warstw można prowadzić trzema metodami metalograficznymi: na szlifie prostopadłym, na szlifie skośnym oraz na szlifie kulistym. W powszechnie stosowanej analizie metalograficznej grubość warstw ocenia się na podstawie obserwacji i pomiaru ujawnionej warstwy na szlifie prostopadłym. Identyfikacja struktury cienkich warstw o grubościach od 0,1 žm do 5 žm za pomocą mikroskopu optycznego jest obarczona dużym błędem wynikającym z rozdzielczości mikroskopu oraz techniki wykonania szlifu prostopadłego. Znacznie dokładniejsza jest metoda szlifu ukośnego, powiększająca fizycznie obraz powłoki lub warstwy. Metoda ta jest bardzo pracochłonna i wymagająca precyzyjnych oprawek metalograficznych do próbek. Łatwiejszą, dającą większe możliwości pomiaru grubości a zwłaszcza analizy struktury cienkich warstw jest metoda szlifu kulistego.

---

In typical metalography investigations there are three methods used: metalographical cross-section, skew metalographic section and spherical metalographic section. Generally the layer thickness is evaluated in metalography analysis by observation and measure of the layer reveal on metalographical cross-section. A structure characterization with optical microscope of thin layers within the range of thickness from 0,1 žm to 5 žm could be very uncertain. The errors come from microscope resolution and quality of preparation of microsection. Much more precise technique is a method of skew metalography section as we can widely see the investigated area on the sample. But, the skew metalography section method is more labour-consuming, and there is necessity to use special metalography mounting. The easiest method, which allows to measure a thickness and analyze structure of thin layers is spherical metalography method.