Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Wpływ parametrów wyładowania jarzeniowego na skuteczność grzania podłoży metalowych w procesach plazmowych

Tytuł:
Wpływ parametrów wyładowania jarzeniowego na skuteczność grzania podłoży metalowych w procesach plazmowych
Autorzy:
Cłapa, M.
Data publikacji:
2010
Słowa kluczowe:
plazma
wyładowanie jarzeniowe
temperatura podłoża
substrate heating
substrate temperature
glow discharge plasma
Język:
polski
Dostawca treści:
BazTech
Artykuł
  Przejdź do źródła  Link otwiera się w nowym oknie
Temperatura podłoża jest jednym z głównych parametrów obróbki powierzchniowej prowadzonej za pomocą plazmy wyładowania jarzeniowego. Dotyczy to zarówno procesów modyfikacji warstwy wierzchniej, jak i osadzania powłok. W pracy przedstawiono wyniki badań skuteczności grzania podłoży metalowych w plazmie wyładowania jarzeniowego. Aby możliwe było porównanie wyników przeprowadzone badania polegały na utrzymaniu stałej temperatury podłoża (300 lub 400°C) przy zmieniających się warunkach wyładowania. Badania prowadzono dla rożnych składów atmosfery w komorze reaktora (Ar, N2, CH4, H2) oraz dla mieszanin tych gazów. Zmieniane było ciśnienie oraz parametry zasilania reaktora. Testy prowadzono dla trzech rodzajów wyładowań (DC, RF, DC-imp). Przedstawione wyniki testów mogą być pomocne przy opracowywaniu technologii obróbki powierzchniowej wykorzystujących techniki plazmowe.
Surface temperature is very important in plasma deposition and surface modification processes. In this paper we present measurements of metal surface heating efficiency in glow discharge plasma. To achieve comparable results we held the substrate temperatures constant at 300 or 400°C while varying other plasma parameters (pressure, gas flow rates and applied power). Three different power supplies (DC, pulsed DC and RF) were used in this study. The measurements were repeated for different working gasses (Ar, N2, CH4 and H2) and for some of their compositions. Our results can be useful for designing plasma assisted surface treatment processes.

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies