Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Negatywowy fotoczuly polimer do fotolitografii

Szczegóły
Abstrakt

Tytuł:: Negatywowy fotoczuly polimer do fotolitografii
Autorzy:: Pomianowski, J.
Data publikacji:: 2006
Słowa kluczowe:: fotoczułe polimery azydkowe
obwody drukowane
fotolitografia
photosensitive azide polymers
printed circuits
photolytography
Język:: polski
Dostawca treści:: BazTech
: Artykuł

Przejdź do źródła

Przedstawiono nowy sposób syntezy światłoczułych polimerów azydkowych stosowanych w przemyśle elektronicznym do wykonywania masek fotolitograficznych i obwodów drukowanych.

The paper presents a new method of synthesis of photosensitive azide polymers used in electronic industry to manufacture photo-lithographic masks and printed circuits.

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies

Informacja

Negatywowy fotoczuly polimer do fotolitografii