Wpływ promieniowania na trwałość wybranych filtrów UV

Przeprowadzono badania trwałości wybranych filtrów UV: 1- (4’ - t -bu t y lof e n y lo) -3- (4’ ’ -me tok s y f e n y lo - )propa no -1,3-dion (MBBM), 1,3-bis-(4’-metoksyfenylo)propano-1,3-dion (MMBM) i 1-(4’-t-metoksyfenylo)-3-fenylopropano-1,3-dion (MBM). Sprawdzono wpływ promieniowania UV oraz obecności czynnika utleniają- cego (nadtlenku wodoru) i źródła jonów chlorkowych (chlorku sodu) na trwałość wybranych filtrów. Wykazano, że istotne znaczenie na trwałość badanych związków mają układy H2 O2 :UV i H2 O2 :NaCl:UV.

---

Studies on the fastness of selec ted UV filters: 1-(4’-t-butylphenyl)-3-(4’’-methoxyphenyl)propane-1,3-dione (MBBM), 1,3-bis-(4’- methoxyphenyl)propane-1,3-dione (MMBM) and 1-(4’-t-methoxyphenyl)-3-phenylpropane-1,3-dione (MBM) were carried out. Effect of UV radiation, presence of an oxidizing agent (hydrogen peroxide) and source of chloride ions (sodium chloride) on the fastness of selected filters was investigated. It was found that the systems H2 O2 :UV and H2 O2 :NaCl:UV were of the essential importance on the fastness of compounds studied.