Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Deposition conditions effect on physical properties and surface topography fractal dimension of the Ti+Ti(CxN1-x) coatings obtained in the PVD process

Tytuł:
Deposition conditions effect on physical properties and surface topography fractal dimension of the Ti+Ti(CxN1-x) coatings obtained in the PVD process
Autorzy:
Kwaśny, W.
Dobrzański, L.A.
Data publikacji:
2004
Słowa kluczowe:
powłoka
PVD
właściwości mechaniczne
topografia powierzchni
struktura
Język:
angielski
Dostawca treści:
BazTech
Artykuł
  Przejdź do źródła  Link otwiera się w nowym oknie
The paper presents investigation results of the effect of deposition parameters on structure and mechanical properties of the Ti+Ti(CxN1-x) coatings obtained by magnetron sputtering in the vacuum furnace onto the ASP 30 sintered high speed steel. Effect of sputtering parameters on chemical and phase compositions, thickness and micro-hardness were evaluated. The characteristic structure and surface topography of the analyzed coatings are presented the fractal character of the surface topography was confirmed.
W pracy przedstawiono wyniki badań wpływu parametrów pokrywania na strukturę i własności mechaniczne powłok Ti+Ti(CxN1-x) uzyskanych przez rozpylanie magnetronowe w piecu próżniowym na podłożu ze spiekanej stali szybkotnącej typu ASP 30. Oceniono wpływ parametrów rozpylania na skład chemiczny i fazowy, grubość oraz mikrotwardość analizowanych powłok. Przedstawiono charakterystyczną strukturę oraz topografię powierzchni analizowanych powłok oraz wykazano jej fraktalny charakter.

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies