Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Struktura i rozkład przestrzenny cząstek metaliczny transportowanych w wyładowaniu łukowym w próżni

Tytuł:
Struktura i rozkład przestrzenny cząstek metaliczny transportowanych w wyładowaniu łukowym w próżni
Autorzy:
Kutzner, J.
Stachowiak, Z.
Data publikacji:
2000
Język:
polski
Dostawca treści:
BazTech
Artykuł
  Przejdź do źródła  Link otwiera się w nowym oknie
W referacie przedstawiono wyniki badań rozkładu cząstek emitowanych z elektrod w łuku wielkoprądowym w próżni. Badania przeprowadzono przy prądzie 2 kA na elektrodach Ni, Cu, CuCr25 rozdzielonych na odległość 11 mm. Do określenia rozkładu przestrzennego wykorzystano kolektory pierścieniowe (metalowe) oraz płaskie płytki ze szkła optycznego, na których tworzone były warstwy metaliczne jako rezultat kolekcji strumieni cząstek emitowanych z katody. W badaniach zastosowano trzy metody pomiaru masy osadzonej na kolektorach: ważenie depozytu masy, analizę grubości warstwy mikrodensytometrem optycznym, oraz analizę mikroskopową makrocząstek. Określono rozkłady przestrzenne masy opisane przez funkcję rozkładu azymutowego i radialnego. Oba rozkłady są anizotropowe a struktura warstwy osadowej zależy od kąta padania cząstek na powierzchnię i gęstość strumienia cząstek.
The mass distribution of particles produced in the high-current vacuum arc was investigated. The expts. were concd. on evaluating the spatial mass distribution emitted in radial as well as in azimuthal directions calcd. from mass deposition profile on the collectors surrounding the arc discharge. The high-current arcs of 2 kA were drawn between butt contacts of 20 and 34 mm in diam. (anode and cathode resp.) both of Ni, Cu and CuCr25. The surface mass deposit along the multisegment collectors were measured by micro-densitometer, the optical microscope. Two angular mass deposit distribution were detd.: the azimuthal distribution represented by function fm(b) on the plane parallel to the cathode surface, and the radial distribution fm(f) a as function of angle fc, with respect to the cathode plane. Both distributions are anisotropic and the structure of deposition layer depends on the angle of particles incident upon the substrate, the d. of particles flux and other factors.

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies