Magnetronowa metoda otrzymywania cienkich warstw Zn-Bi-O

W pracy przedstawiono technologię otrzymywania cienkich warstw Zn-Bi-0 metodą rozpylania magnetronowego w atmosferze obojętnej i reaktywnej. Pokazano wpływ ciśnienia gazu roboczego i mocy wydzielonej na targecie na szybkość osadzania warstw na podłoża. Warstwy charakteryzują się silnie nieliniową charakterystyką prądowo-napięciową a napięcie zadziałania warystorów jest rzędu pojedynczych woltów.

---

In this paper technology of preparing of Zn-Bi-0 thin layers by magnetron sputtering method in neutral and reactive atmosphere were presented. Influence of pressure of gas and an envolved power by target on rate deposition thin layers. Thin layers had a non-linear I-V chracteristic and a breakdown voltage of varystors is low.