Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Preparation and properties of colloidal nanosize silica dioxide for polishing of monocrystalline silicon wafers

Szczegóły
Abstrakt

Tytuł:: Preparation and properties of colloidal nanosize silica dioxide for polishing of monocrystalline silicon wafers
Autorzy:: Gaishun, V. E.
Tulenkova, O. I.
Melnichenko, I. M.
Baryshnin, S. A.
Potapenok, Y. A.
Xlebokazov, A. P.
Stręk, W.
Data publikacji:: 2002
Słowa kluczowe:: colloidal silica
metallographic polishing
silicon
Język:: angielski
Dostawca treści:: BazTech
: Artykuł

Przejdź do źródła

Colloidal silica can be used for final general metallographic polishing. It is used to polish single crystal silicon for electronic applications and, subsequently, polycrystalline silicon for solar cells, gallium arsenide, indium phosphide, titanium, gadolinium gallium garnet and sapphire. The silica dioxide are dispersed in water with alkaline compound added to obtain the desired pH.

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies

Informacja

Preparation and properties of colloidal nanosize silica dioxide for polishing of monocrystalline silicon wafers