Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Characterization of laser ablated AgInSe2 films

Tytuł:
Characterization of laser ablated AgInSe2 films
Autorzy:
Pathak, D.
Bedi, R. K.
Kaur, D.
Data publikacji:
2010
Słowa kluczowe:
pulse laser ablation
silicon wafers
heterojunction
FESEM
direct band gap materials
Język:
angielski
Dostawca treści:
BazTech
Artykuł
  Przejdź do źródła  Link otwiera się w nowym oknie
AgInSe2 (AIS) thin films have been grown directly on silicon by means of a pulsed laser deposition technique. The X-ray diffraction studies show that the films are textured in the (112) direction. Increase of the substrate temperature results in a more ordered structure. Composition of the samples has been analysed by EDAX. It was found that the stoichiometry is better maintained with the PLD technique than with other traditional methods like thermal evaporation. The optical studies of the films show that the optical band gap is about 1.20 eV. The results of investigations may be of interest for a better understanding of the growth processes of chalcopyrite thin films on silicon materials.

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies