The comparison of the structural properties of multilayered systems Cu/Ni obtained by the electrochemical and face-to-face sputtering methods

The investigations of the structural properties of Cu/Ni multilayer systems for following samples: Si(100)/[Cu(20Å)/Ni(t)] x 100, Si(100)/[Ni(20 Å)/Cu(t)] x 100 were performed. The samples were produced using electrochemical and face-to-face sputtering methods. It was affirmed that multilayers obtained by face-to-face sputtering method, in comparison with samples obtained by electrochemical method, were characterized by better quality of the structure. The samples madę by the face-to-face sputtering method have smaller value of the interface roughness, higher quantity and quality of satellite peaks. The half widths of peaks for both superlattices are similar. Additionally, in reflectivity measurements the presence of Bragg peaks was stated. They are used to determine the value of period of the multilayer system. These type of peaks was not present in samples madę by electrochemical method.

---

W pracy przedstawiono wyniki badań właściwości strukturalnych układów wielowarstwowych Cu/Ni. Wielowarstwy te otrzymano dwoma metodami: elektrochemiczną oraz rozpylenia jonowego. Na podstawie przeprowadzonych badań udowodniono, że próbki uzyskane metodą rozpylenia jonowego charakteryzują się lepszą jakością struktury. Przejawia się to: w mniejszej wartości szorstkości, obecnością wierzchołków satelitarnych, zbliżoną wartością szerokości połówkowej wierzchołków supersieci.