Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Badania fizykochemicznych podstaw regulacji procesu azotowania jarzeniowego z wykorzystaniem diagnostyki plazmy

Tytuł:
Badania fizykochemicznych podstaw regulacji procesu azotowania jarzeniowego z wykorzystaniem diagnostyki plazmy
Autorzy:
Smolik, J.
Walkowicz, J.
Miernik, K.
Szubrycht, T.
Data publikacji:
2000
Słowa kluczowe:
azotowanie jarzeniowe
spektrometria masowa
spektroskopia emisyjna
ion-nitriding
mass spectrometry
emission spectroscopy
Język:
polski
Dostawca treści:
BazTech
Artykuł
  Przejdź do źródła  Link otwiera się w nowym oknie
W artykule zostały przedstawione widma emisyjne oraz widma masowe plazmy wyładowania jarzeniowego zarejestrowane dla trzech procesów azotowania różniących się składem atmosfery azotującej i parametrami prądowo-napięciowymi wyładowania. W celu identyfikacji uzyskanych struktur warstw azotowanych wykonano badania dyfrakcyjne i metalograficzne. Na podstawie zarejestrowanych widm oraz po uwzględnieniu wy­ników wykonanych badań strukturalnych dla utworzonych warstw azotowanych dokonana została próba oceny, które ze składników plazmy istotnie wpływają na strukturę tworzonej warstwy azotowanej. Analiza widm masowych pozwoliła określić decydujący wpływ azotu atomowego na intensywność procesu azotowania natomiast analiza widm emisyjnych pozwoliła określić mechanizm jego wytwarzania w badanych procesach.
The paper presents the mass and emission spectra of the glow discharge plasma recorded for three different processes of ion nitriding. The structures of nitrided layers were investigated with the used of X-ray diffraction and optical metallography. The paper's authors revealed the correlation between parameters of the glow discharge plasma, observed by spectroscopic methods, and kinetics of the nitriding process determined by the structures of nitrided layers. On the basis of the obtained results plasma components, decisive for forming of individual structures of the nitrided layer, during nitriding process were assigned.

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies