Dobór parametrów procesu wytwarzania sprzęgaczy siatkowych struktur fotonicznych przy zastosowaniu techniki trawienia skupioną wiązką jonową

W artykule zaprezentowany został sposób wytwarzania sprzęgaczy siatkowych struktur fotonicznych, przy zastosowaniu techniki trawienia skupioną wiązką jonową. Struktury te miały pełnić funkcję wprowadzania światła do ścieżek optycznych w układach scalonych. Z uwagi na nietypową geometrię sprzęgaczy, wykonanie ich przy zastosowaniu typowej technologii fotolitografii jest niemożliwe. Z tego powodu do procesu produkcji oraz analizy wyników wykorzystano urządzenie Dual Beam, łączące w sobie zarówno system skupionej wiązki jonowej FIB (Focused Ion Beam), jak i mikroskop elektronowy SEM (Scanning Electron Microscopy).

---

The work presented in this paper was aimed at fabricating special grating couplers for photonic applications using a focused ion beam technology. Because of the fact that the fabrication of these structures with an assistance of the traditional photolithography was impossible due to their non - standard geometry, the FIB technology had been used. All the investigations were made using a Dual Beam system which is a type of the FIB combining both, the FIB and the SEM (Scanning Electron Microscopy) in a single system, which expands the capabilities of the FIB by the possibility of performing electron beam assisted inspection and deposition, which is less harmful than using the ion beam.