Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Badanie wpływu temperatury na parametry elektryczne struktur MOS

Tytuł:
Badanie wpływu temperatury na parametry elektryczne struktur MOS
Autorzy:
Leśko, M.
Przewłocki, H.
Data publikacji:
2005
Słowa kluczowe:
struktura MOS
napięcie płaskich pasm
naprężenia mechaniczne
temperatura
napięcie przecięcia
MOS structure
flat-band voltage
mechanical stress
temperature
crossover voltage
Język:
polski
Dostawca treści:
BazTech
Artykuł
  Przejdź do źródła  Link otwiera się w nowym oknie
Zamieszczono wyniki badań zależności podstawowych parametrów elektrycznych struktur MOS od temperatury. Mierzone struktury różniły się od siebie parametrem R, definiowanym jako stosunek obwodu bramki do jej powierzchni. Wyniki badań wykazały silną zależność napięcia płaskich pasm UFB i napięcia przecięcia Ux od wartości parametru R i od temperatury.
In this paper we present results of our investigation of the dependence of basic electrical parameters of MOS devices on temperature. The measured structures differed widely in their perimeter to area ratio R. Measurement results indicate strong dependence the flat-band voltage VFB and the crossover voltage Vx on the R value and on the temperature.

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies