Sterownik procesu rozpylania pracujący w środowisku LabVIEW

W pracy przedstawiono nowy typ układu do sterowania procesem magnetronowego rozpylania jonowego zrealizowanego w środowisku LabVIEW. Pozwala on na łatwe sterowanie i monitorowanie pracy takich urządzeń jak pompy próżniowe, zawory, zasilacze wysokiego napięcia, silniki liniowe i krokowe oraz różnego typu urządzenia pomiarowe. Wykorzystane narzędzia programowe pozwalają na monitorowanie statusu poszczególnych urządzeń oraz parametrów procesu zarówno w formie graficznej jak i numerycznej. Możliwa jest również obserwacja parametrów zarówno w czasie rzeczywistym jak i zapis charakterystyk czasowych dla dowolnego urządzenia. Prezentowany sterownik został wykorzystany do kontroli procesu jonowego rozpylania magnetronowego. Środowisko graficzne LabVIEW umożliwia stworzenie elastycznych algorytmów sterowania procesem. Staje się ono standardowym narzędziem programowania wykorzystywanym zarówno dla systemów laboratoryjnych [1] jak i przemysłowych [2,3].

---

A new family of control devices for magnetron sputtering processes working in a graphical LabVIEW environment is presented in this paper. The system could easily control external devices like pumps, valves, motors, power supplies etc. as well as different types of measuring devices. Using the programming tools one can check the status of different devices and process parameters in both graphical and numerical form. Real time visualisation and post process analysis are possible to use for every single device existing in the system or a process parameter. The control system was designed for the reactive magnetron sputtering. LabVIEW graphical language allows for an easy implementation of any changes of the process algorithm. This package becomes a standard for designing both laboratory [1] and industrial [2] systems.