Application of laser-plasma source with gas-puff target for calibration of EUV radiation detectors

The paper presents a laboratory setup with a procedure used for measurements of detector responsivity. The responsivity is specified in the range of extreme ultraviolet radiation (wavelength of 13.5 nm). This spectrum range is an important factor determining the next step of nanolithography. The main issue of this technology is an absolute measurement of radiation energy. The constructed laser-plasma source with a metrology chamber gave opportunity to design a special calibration procedure of EUV detectors used in energy meters. The described laboratory setup is characterized by a good reliability, low costs of operation, and a short time of measurement procedures.

---

Przedstawiono stanowisko laboratoryjne do pomiarów czułości widmowej detektorów promieniowania zakresu skrajnego nadfioletu (λ= 13,5 nm). Promieniowanie to jest szczególnie istotne, gdyż stanowi perspektywę dalszego rozwoju nanolitografii. Obecnie zasadniczym zagadnieniem tej technologii są bezwzględne pomiary energii promieniowania. Skonstruowanie w Instytucie Optoelektroniki WAT źródła laserowo-plazmowego z tarczą gazową dało możliwość przygotowania specjalnej procedury testującej. Opracowane na podstawie badań wstępnych stanowisko laboratoryjne charakteryzuje się dużą niezawodnością małymi kosztami eksploatacji oraz krótkim czasem trwania procedury pomiarowej detektorów promieniowania z zakresu skrajnego nadfioletu.