Zastosowanie prekursora metaloorganicznego w procesie syntezy TiAIC - technologia MO PVD-Arc

W obecnie stosowanych technikach syntezy powłok w środowisku plazmy reaktywnej (technologie PA PVD) źródłem pierwiastka metalicznego są elektrody metaliczne. W niniejszej pracy przedstawiono wyniki badań nad powłokami uzyskiwanymi w procesie PA PVD -Arc w którym zastosowano prekursor metaloorganiczny zawierający Al. Zastosowanie tego związku dało możliwości wytwarzania powłok węglikowych typu TiAlN 0 zmiennej zawartości Al. Szeroko przeprowadzone badania materiałowe powłok wykazują doskonałe właściwości tribo-korozyjne tych powłok w porównaniu do tradycyjnie wytwarzanych powłok monowarstwowych TiN, TiC. Analiza plazmy procesowej wykazuje istnienie linii atomowych wzbudzonego i zjonizowanego aluminium.

---

At present in PAPVD technologies where syntheses proceed in plasma reactive environment, the metallic electrodes are source of metallic elements compound in coats. In this paper are present results of studies of coatings obtained in PAPVD-Arc method. In our case coatings were deposited by using a metalorganic precursor which contain an aluminum. An application of this compound make a possibility to deposition a carbide coats like TiAlN coats with variable concentration of Al compound. Material investigations of coats are widely realized, and show perfect tribo-corrosion features against the TiN and TiC monolayer coatings deposited in traditional way. The analyses of reaction plasma exhibits appearance of atomic lines from excitation and ionized aluminum ions.