Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Warstwy węglowe (a-C:H) i uazotowione warstwy węglowe (a-C:N:H) na poliwęglanie

Tytuł:
Warstwy węglowe (a-C:H) i uazotowione warstwy węglowe (a-C:N:H) na poliwęglanie
Autorzy:
Jonas, S.
Nowak, R.
Kot, M.
Walasek, E.
Krupa, G.
Data publikacji:
2005
Język:
polski
Dostawca treści:
BazTech
Artykuł
  Przejdź do źródła  Link otwiera się w nowym oknie
Amorficzne, uwodornione i uazatowione warstwy węglowe (a-C:H) i (aC:N:H) na podłożach metalicznych, ceramicznych i polimerowych sit interesującym materiałem dla elektroniki, optoelektroniki, przemysłu maszynowego i medycyny. Ich strukturę oraz właściwości elektryczne, optyczne i mechaniczne można regulować poprzez zmianę parametrów procesu osadzania Praca zawiera wyniki badań nad otrzymywaniem tego typu warstw na podłożu polimerowym (PC) metodą chemicznego osadzania z fazy gazowej z użyciem plazmy (RFCVD). Warstwy otrzymywano w temperaturze nie przekraczającej 30 stopni C przy użyciu reakcyjnych mieszanin gazowych zawierających w swym składzie metan, wodór, argon i azot podawanych do reaktora w różnych proporcjach. Określono optymalne parametry procesu, w którym otrzymuje się warstwy dobrze przyczepne do podłoża. Skład chemiczny, strukturę i nanostrukturę warstw badano przy użyciu metod: fourierowskiej spektroskopii w podczerwieni (FTIR), mikroskopu skaningowego (SEM) oraz mikroskopu sił atomowych (AFM). Wykonano również badania właściwości tribologicznych tych warstw.
Amorphous hydrogenated and nitrogenated carbon (a-CH) and (a-C:N:H) layers on metallic, ceramic and polymeric substrates are interesting materials for electronic, optoelectronic, mechanical industry and medicine. Their structure and properties can be modified through the change of deposition process parameters. The work contains the resuItants of investigations on obtaining this type of layers on (PC) substrates by using plasma enhanced chemical vapour deposition (RFCVD) method. The layers were deposited at the temperature not higher 30 degre C, using methane, hydrogen, argon and nitrogen which were provided in different ratio to reactor. It was defined the optimum process parameters in which can be obtained the good adhesive layers to the substrate. The investigation of chemical composition, structure and nanostructure of these layers were carried out by using FTIR spectroscopy, scanning microscopy (SEM) and atomic force microscopy (AFM). The tribological properties were investigated by tribometer in a ball-on-disk configuration.

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies