Oczyszczanie ścieków z fotochemicznej produkcji obwodów drukowanych z zastosowaniem odczynnika Fentona z dodatkiem nadwęglanu disodu

Przedstawiono możliwość zastosowania nadwęglanu disodu, jako alternatywnego źródła H2O2 w reakcji Fentona, zastosowanej do oczyszczania ścieków pochodzących z produkcji obwodów drukowanych, które charakteryzowały się wysoką wartością CHZT(Cr) oraz wysokim stężeniem jonów miedzi(II). Planowanie eksperymentu i analizę uzyskanych danych eksperymentalnych przeprowadzono przy użyciu programu Statistica 10, wykorzystując w tym celu metodę powierzchni odpowiedzi. Przedstawiono możliwość zmniejszenia wartości CHZT(Cr) badanych ścieków o ok. 72,8%, przy równoczesnym zmniejszeniu stężenia miedzi o ok. 98,5%. Wskazano na możliwość skutecznego strącenia jonów miedzi(II) dzięki degradacji związków kompleksowych miedzi(II) przez rodniki hydroksylowe generowane w reakcji Fentona.

---

Wastewater from prodn. of printed circuit boards was treated with Na2CO3•3H2O2, FeSO4 and H2SO4 at 19°C and pH 2.0–4.0 for 60 min (Fe2+ concn. 400–600 mg/L, Na2CO3•3H2O2 concn. 8000–12000 mg/L). The chem. O2 demand in the system decreased from 1690 mg/L down to even 432 mg/L. The results were presented as polynomial regression equations. The concn. of Cu2+ ions in the system also decreased from 25.9 mg/L down to 0.4 mg/L with the increasing pH (to 12.5).