Oczyszczanie ścieków z fotochemicznej produkcji obwodów drukowanych z zastosowaniem odczynnika Fentona z dodatkiem nadtlenku wapnia

Przedstawiono możliwość zastosowania CaO2 jako alternatywnego źródła H2O2 w reakcji Fentona do oczyszczania ścieków pochodzących z produkcji obwodów drukowanych, które charakteryzowały się zwiększoną wartością ChZT(Cr) oraz zwiększonymi stężeniami jonów Cu2+, Ni2+ i Sn2+. Planowanie eksperymentu i analizę uzyskanych danych eksperymentalnych przeprowadzono przy użyciu oprogramowania Statistica 10, wykorzystując metodę powierzchni odpowiedzi. Przedstawiono uzyskane wyniki obniżenia stężenia ChZT(Cr) badanych ścieków o ok. 80%, przy równoczesnym zmniejszeniu stężenia miedzi o 99,2%, niklu o 98,6% i praktycznie całkowitym wytrąceniu cyny (<0.05mg/L.) Wskazano na możliwość skutecznego strącenia jonów Cu(II) oraz Ni(II), dzięki degradacji związków kompleksowych Cu(II) i Ni(II) przez rodniki hydroksylowe powstające w reakcji Fentona.

---

Wastewater from prodn. of printed circuit boards was treated with CaO2, FeSO4 and H2SO4 at 18°C and pH 2–4 for 60 min (Fe2+ concn. 400–600 mg/L, CaO2 concn. 7500–9500 mg/L). The COD value in the system decreased from 1690 mg/L down to even 339 mg/L. The results were presented as polynomial regression equations. The concn. of Cu2+, Ni2+and Sn2+ ions in the system also decreased from 25.9 mg/L down to 0.2 mg/L, from 6.9 mg/L down to 0.1 mg/L and from 10.2 mg/L down to <0.05mg/L., resp., with the inscreasing pH (up to 12).