Reactions of Non-Ionic Surfactants, Triton X-n Type, with OH Radicals : A Review

The mechanism of decomposition of non-ionic surfactants, Triton X-n type, under the influence of ionising radiation is described. The survey of the available data strongly suggests that OH radicals are the main intermediates responsible for the radiation-induced destruction of wastewater containing non-ionic surfactants. The OH radicals’ contribution to advanced oxidation processes is discussed, including the case of textile wastewaters. The importance of pulse radiolysis technique is underlined with regard to the kinetic data determination.

---

Przedstawiono mechanizm rozkładu niejonowych środków powierzchniowo czynnych typu Triton X-n w roztworze wodnym, zachodzący pod wpływem promieniowania jonizującego. Dane doświadczalne dowodzą, że rodniki OH są najważniejszym czynnikiem odpowiedzialnym za rozkład zanieczyszczeń w procesie radiacyjnego oczyszczania ścieków, także takich które zawierają niejonowe środki powierzchniowo czynne. Przedyskutowana została rola rodników OH w innych wersjach procesu pogłębionego utleniania, także w odniesieniu do ścieków włókienniczych. Podkreślono znaczenie techniki radiolizy impulsowej przy wyznaczaniu stałych kinetycznych.