Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Ion implantation followed by laser/pulsed plasma/ion beam annealing : a new approach to fabrication of superconducting MgB2 thin films

Szczegóły
Opis

Tytuł:: Ion implantation followed by laser/pulsed plasma/ion beam annealing : a new approach to fabrication of superconducting MgB2 thin films
Autorzy:: Piekoszewski, J.
Werner, Z.
Barlak, M.
Kolitsch, A.
Szymczyk, W.
Data publikacji:: 2008
Wydawca:: Instytut Chemii i Techniki Jądrowej
Tematy:: MgB2
superconducting films
pulsed plasma annealing
Źródło:: Nukleonika; 2008, 53, 1; 7-10
0029-5922
1508-5791
Język:: angielski
Prawa:: Wszystkie prawa zastrzeżone. Swoboda użytkownika ograniczona do ustawowego zakresu dozwolonego użytku
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki
: Artykuł

Przejdź do źródła

The paper presents a new approach to formation of superconducting MgB2 thin films: ion implantation followed by annealing in an unconventional second step treatment using pulsed laser, plasma, or ion beams. Merits and drawbacks of individual approaches are discussed.

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies

Informacja

Ion implantation followed by laser/pulsed plasma/ion beam annealing : a new approach to fabrication of superconducting MgB2 thin films