Multilevel control system for low-pressure plasma processes

The article presents a multilayer control system for test stands designed for PVD (Physical Vapour Deposition) technological processes used for depositing thin surface layers. This system provides control of the test stand via the HMI (Human Machine Interface) control panel and by using specialized supplies of plasma sources. The primary control system that utilizes a PC computer with a dedicated application allows a full automation of surface layer deposition technology. Developed and implemented on a test stand, the systems have been tested based on sample technological processes used in material engineering.

W artykule przedstawiono wielopoziomowy system sterowania przeznaczony dla stanowisk do prowadzenia procesów technologicznych PVD (Physical Vapour Deposition) wykorzystywanych w nakładaniu cienkich warstw wierzchnich. System pozwala na bezpośrednie sterowanie stanowiskiem badawczym za pomocą panelu operatorskiego HMI (Human Machine Interface) oraz przy wykorzystaniu specjalizowanych zasilaczy źródeł plazmy. Nadrzędny system sterowania wykorzystujący komputer PC z dedykowaną aplikacją pozwala na pełną automatyzację realizacji technologii osadzania warstw wierzchnich. Opracowany i zaimplementowany na stanowisku badawczym system został przetestowany w przykładowych procesach technologicznych wykorzystywanych w inżynierii materiałowej.