The Voltammetric Analysis of Selenium Electrodeposition from H2SeO3 Solution on Gold Electrode

The different voltammetry techniques were applied to understand the process of selenium deposition from sulfate solution on gold polycrystalline electrode. By applying the cycling voltammetry with different scan limits as well as the chronoamper-ometry combined with the cathodic and anodic linear stripping voltammetry, the different stages of the deposition of selenium were revealed. It was found that the process of reduction of selenous acid on gold surface exhibits a multistage character. The cyclic voltammetry results showed four cathodic peaks which are related to the surface limited phenomena and which coincide with the bulk deposition process. The fifth cathodic peak is related to the reduction of bulk deposited Se⁰ to Se^-2 ions. Furthermore, the connection of anodic peaks with cathodic ones confirmed the surface limited process of selenium deposition, bulk deposition and reduction to Se^-2. Additionally, the cathodic linear stripping voltammetry confirms the process of H₂SeO₃ adsorption on gold surface. The experiments confirmed that classical voltammetry technique proved to be a very powerful tool for analyzing the electrochemical processes related with interfacial phenomena and electrodeposition.

Zastosowano różne techniki woltamperometryczne w celu pełnego zrozumienia procesu osadzania selenu metodą elektrochemiczną na elektrodzie złotej. Wykorzystano w tym celu cykliczną woltamperometrię, a także chronoamperometrię połączona z katodową i anodową woltamperometrią inwersyjną. Wykazano, że proces osadzania selenu jest bardzo złożony i zachodzi w kilku etapach. Wyróżniono etap podpotencjałowego osadzania selenu, następnie zachodzi redukcja zaadsorbowanych cząsteczek kwasu selenowego(IV), po którym następuje nadpotencjałowe osadzanie selenu. W zakresie wysokich nadpotencjałów dochodzi do redukcji Se⁰ do jonów Se^-2. Powyższe eksperymenty potwierdziły wysoką przdatność technik woltamperometrycznych jako metody badawczej w celu analizy mechanizmu osadzania powłok metodą elektrochemiczną.